半导体硅片类超声波清洗机

设备名称：全自动全封闭超声波气相清洗机

设备型号：FRA-4030FAC
清洗对象：电子引线框架
使用厂家：乐山无线电二厂

一．设备名称：全自动全封闭超声波气相清洗机

二．设备型号：FRA-4030FAC

3.1 零件：电子引线框架

3.2 材料：铜

四. 清洗要求：

4.1 清洗后表面不得有油污及其它杂物；

4.2 生产效率：可每天三班连续工作，每篮节拍3-6分钟；每篮可装用户现有工装（规格为： 500×260×150（L×W×H mm））两只。

4.3 清洗溶剂:正溴丙烷（沸点71℃、密度：1.35、不燃、不溶于水）

清洗工艺：上料→超声波清洗→冷浸洗→蒸气浴洗→冷冻干燥（蒸馏回收）→下料。

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成功案例